GaSe 硒化鎵 NIR-IR近紅外非線性光學(xué)晶體

GaSe(硒化鎵)晶體的太赫茲振蕩能達(dá)到有非常寬的頻域,至41THz。GaSe是負(fù)單軸層狀半導(dǎo)體晶體,擁有六邊形結(jié)構(gòu)的62m空間點(diǎn)群,300K時禁帶寬度為2.2eV。GaSe晶體抗損傷閾值高,非線性系數(shù)大(54pm/V),非常合適的透明范圍,以及超低的吸收系數(shù),這使其成為中紅外寬帶電磁波振蕩的非常重要的解決方案。因?qū)拵掌澱袷幒吞綔y使用的是低于20飛的激光光源,GaSe發(fā)射-探測系統(tǒng)能獲得與ZnTe可比的甚至更好的結(jié)果。通過對GaSe晶體厚度的選取,我們可以實現(xiàn)對THz波的頻率可選擇性控制。
注:GaSe晶體的解理面為(001),因此對該晶體使用的一個很大限制在于質(zhì)軟,易碎。
主要特性
復(fù)合物 | GaSe | |
透光率, µm | 0.62 – 20 | |
非線性系數(shù), pm/V | d22 = 54 @10.6 µm | |
對稱度 | 六方晶系, 6m2 point group | |
晶胞參數(shù), Å | a=3.74, c=15.89 | |
典型反射系數(shù) | 10.6 µm | no=2.6975, ne=2.3745 |
光學(xué)損傷閾值, MW/cm2 | 1064 nm | 30 |
離散角, ° | 5.3 µm | 4.1 |
應(yīng)用
-
10.6 µm激光輻射二次諧波的產(chǎn)生
-
中紅外區(qū)域高達(dá)17µm的光學(xué)參量振蕩器、光學(xué)參量放大器、DFG等
對于所有晶體,我們能夠為特定應(yīng)用提供合適的防反射/保護(hù)涂層,以及反射率曲線。
GaSe(硒化鎵)晶體的太赫茲振蕩能達(dá)到有非常寬的頻域,至41THz。GaSe是負(fù)單軸層狀半導(dǎo)體晶體,擁有六邊形結(jié)構(gòu)的62m空間點(diǎn)群,300K時禁帶寬度為2.2eV。GaSe晶體抗損傷閾值高,非線性系數(shù)大(54pm/V),非常合適的透明范圍,以及超低的吸收系數(shù),這使其成為中紅外寬帶電磁波振蕩的非常重要的解決方案。因?qū)拵掌澱袷幒吞綔y使用的是低于20飛的激光光源,GaSe發(fā)射-探測系統(tǒng)能獲得與ZnTe可比的甚至更好的結(jié)果。通過對GaSe晶體厚度的選取,我們可以實現(xiàn)對THz波的頻率可選擇性控制。
注:GaSe晶體的解理面為(001),因此對該晶體使用的一個很大限制在于質(zhì)軟,易碎。
主要特性
復(fù)合物 | GaSe | |
透光率, µm | 0.62 – 20 | |
非線性系數(shù), pm/V | d22 = 54 @10.6 µm | |
對稱度 | 六方晶系, 6m2 point group | |
晶胞參數(shù), Å | a=3.74, c=15.89 | |
典型反射系數(shù) | 10.6 µm | no=2.6975, ne=2.3745 |
光學(xué)損傷閾值, MW/cm2 | 1064 nm | 30 |
離散角, ° | 5.3 µm | 4.1 |
應(yīng)用
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10.6 µm激光輻射二次諧波的產(chǎn)生
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中紅外區(qū)域高達(dá)17µm的光學(xué)參量振蕩器、光學(xué)參量放大器、DFG等
對于所有晶體,我們能夠為特定應(yīng)用提供合適的防反射/保護(hù)涂層,以及反射率曲線。
更新時間:2023/5/24 17:35:35
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