HL-7A高溫裂解爐

工作原理

樣品被引入高溫裂解爐后發(fā)生氧化裂解反應，在 1000℃左右的高溫下，樣品中的氮化物定量地轉化為一氧化氮（NO），硫化物定量地轉化為二氧化硫（SO?）。

結構設計

• 加熱系統(tǒng)：采用加熱絲加熱元件，能快速升溫并維持穩(wěn)定的高溫環(huán)境，以確保樣品充分裂解。

• 爐管：通常由耐高溫、耐腐蝕的碳化硅材料制成，可保證在高溫下不與樣品及反應產物發(fā)生化學反應，同時能承受高溫下的氣體壓力。

• 溫度控制系統(tǒng)：配備高精度的熱電偶或其他溫度傳感器，實時監(jiān)測爐內溫度，并將溫度信號反饋給控制器，實現(xiàn)對爐溫的精確控制。

性能參數(shù)

• 溫度范圍：常用溫度在 1000℃-1150℃左右，如 RKTN-2000 化學發(fā)光氮測定儀的裂解爐溫度范圍為室溫 - 1100℃，控溫精度可達 ±3℃。

• 控溫精度：控溫精度一般在 ±1℃-±5℃之間，如 tn-100 化學發(fā)光測氮儀控溫精度為 ±1℃，微機多樣定硫儀的控溫精度為 ±5℃。

• 升溫速度：較快的升溫速度可提高分析效率，一般從室溫升至 1000℃以上只需幾分鐘到十幾分鐘不等。

作用

• 樣品裂解：為樣品提供高溫環(huán)境，使樣品中的硫、氮化合物發(fā)生氧化裂解反應，轉化為易于檢測的氣態(tài)產物，如 NO 和 SO?。

• 保證反應充分：確保樣品中的硫、氮元素全部轉化為相應的可檢測物質，以提高檢測結果的準確性和可靠性。

維護與保養(yǎng)

• 定期清理：定期清理爐管內的積碳、積灰等雜質，防止其影響樣品的裂解效果和檢測結果。清理時需小心操作，避免損壞爐管。

• 檢查加熱元件：定期檢查加熱絲或加熱棒等加熱元件的狀態(tài)，如有老化、斷裂等情況，應及時更換，以保證加熱系統(tǒng)的正常運行。

• 校準溫度：定期使用標準溫度計對高溫裂解爐的溫度進行校準，確保溫度顯示的準確性和控溫的精確性。

HL-7A高溫裂解爐，可從中間打開，并開安裝石英管。保修期12個月