THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機
NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構設計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設備，用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多的研發(fā)機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。
產(chǎn)品特點
占地小、操作簡便
可實現(xiàn)高質量的圖形復制
可實現(xiàn)納米熱壓設備的一切功能，而無需昂貴的工藝設備
技術參數(shù)
THERMAL NIL 主要性能指標：
集成控溫卡盤，可對溫度進行測量、控制
可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板
可適用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials
壓印程序可進行編程
適用所有熱壓印材料
設備可用于復制壓印母板
壓印溫度可達200 攝氏度
壓力范圍：1‐10 bar
壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗收)
將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上
載盤適用于易碎襯底
快速升溫，快速降溫，擁有技術的卡盤設計，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘
提供COC 有機聚合物中間層軟膜（的母板復制工藝），耗材及工藝培訓
提供壓印相關材料
提供工藝培訓和支持
產(chǎn)品應用
在硅片上制作納米級光柵
壓印易碎的材料（例如III-V族材料）
微結構加工
制作壓印
保護母版的適用壽命
熱壓高深寬比結構圖形
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