產品總覽
產品的好處：
? 特殊衍射波前誤差
? 全光圈均勻度高
? 高激光損傷閾值
? 曲線可以用于聚焦應用
產品適用范圍 ：
? 脈沖壓縮用于緊湊典型、商用飛秒激光器
? 波束組合(SBC)為平均功率激光非常高
? 高強度球形和圓柱形聚焦元件，用于科學激光和工業(yè)退火應用
產品特點：
光柵典型 | 傳輸 |
衍射效率 | 典型.93– 96% |
衍射波前誤差 | < λ / 4(大小相關) |
光損傷閾值 | 15 J/cm2 @1054 nm, 10 ns |
頻帶寬度 | 典型. 10’s to > 100 nm |
透射光柵需要非常深的溝槽深度來實現(xiàn)高衍射效率，所需順序-通常3 - 10倍深度比MLD光柵和鍍金光柵，PGL開發(fā)基于深度蝕刻工藝反應離子蝕刻(RIE)可以直接獲得> 2.5?m溝槽深
在熔融石英襯底，該工藝高均勻性和掃描光束干涉光刻精度，納米光柵刻寫技術產生特殊的衍射波前誤差性能。
優(yōu)質減反射(AR)涂層對于傳輸光柵也是至關重要的。
PGL薄膜涂層方面經驗使我們能夠親自生產優(yōu)化薄膜涂層為所有透射光柵能設計AR涂層，由此產生的光柵是理想的緊湊，，從激光脈沖壓縮機到光譜儀的商業(yè)系統(tǒng)。
產品詳細信息:
PGL光柵曝光和蝕刻工藝產生異常光滑，使一致，深格柵槽對于可忽略的衍射波前誤差均勻性和衍射效率高。
下圖理論顯示衍射效率與輸入波長和入射角的關系，對于優(yōu)化為800 nm的1200 l/mm光柵，實際光柵通常比理論低1 - 2%。
聚焦光柵
除了PGL的SBIL許多優(yōu)點之外標準光柵的光柵刻寫技術-高衍射效率，一致占空比和周期
可重復性10ppb從部分到部分-納米尺能輕易地產生彎曲光柵線，作為一個結果，我們可以同時生產球形和圓柱聚焦光柵。
更新時間：2024/8/21 13:52:12
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