用途：是為實驗室中H2、N2、Ar、Air等氣體進行凈化處理的小型凈化裝置?？蓮V泛應用于高分子材料、有機合成、物理化學、元素分析、光纖材料、半導體材料、無機材料、金屬冶煉、環(huán)境分析、食品分析和氣相色譜等實驗室及工藝流程中的氣體凈化器
原理： 具有三源獨立的氣路流程。對氣體有害雜質進行雙向雙濾凈化處理。例如：脫除水份、可填裝變色分子篩、脫除烴類（CH2），可填裝活性碳；脫除CO2，可填裝燒堿石棉等。根據(jù)不同的要求，還可以將三路串接使用，達到三級深度凈化的要求
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GPI-2實驗室氣體凈化器設備/氣體凈化器*
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