主要用途：大中專院校、實驗室、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、氣氛還原、CVD反應實驗、真空退火及金屬封裝、石墨烯等新材料、新工藝領域用的理想產品。
　　主要特點：具有溫場均勻、表面溫升低、升溫速率高、節(jié)能等特點，模塊化設計，產品系列齊全。
　　使用溫度：600℃-1200℃。
　　常用氣氛：真空、氮氣。
　　功能選件：耐爐內檢測系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、保護氣氛系統(tǒng)、計算機集成控制系統(tǒng)、溫度曲線記錄打印、氣氛檢測分析系統(tǒng)、設備凈化應用。